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SiO Sintering Furnace
氧化亚硅真空炉
 
氧化亚硅真空炉是一种用于氧化亚硅材料加工的高端设备，主要通过精确控制高温和真空环境，实现氧化亚硅的升华、烧结、提纯等工艺。

  • 适用温度

    反应区温度1400℃

  • 适用气氛

    氮气

  • 加热方式

    电阻加热

  • 控温方式

    PLC智能触摸屏集中控制

  • 控温精度

    ±5℃

  • 升温速率

    0~15℃/min

智能控温系统、智能冷却系统、智能软控系统
CUSTOMER CASE
客户案例
 
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2021-12-08
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2021-04-27
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2018-01-04
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2020-04-03

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